Rapidus社長小池淳義（左二）陪同荷蘭首相斯霍夫（左三）考察該公司新工廠。4月22日上午攝於北海道千歲市。（共同社）
【共同社4月22日電】荷蘭首相斯霍夫22日考察位於日本北海道千歲市的Rapidus新工廠，該公司力爭實現下一代半導體的國產化並已在本月起動試驗生產線。荷蘭企業向Rapidus提供生產微小半導體不可或缺的光刻設備，斯霍夫表示期待稱「兩國合作提升技術對全球有益」。
陪同的Rapidus社長小池淳義表示，「荷蘭的設備對Rapidus很重要。」該公司去年12月從荷蘭半導體製造設備巨頭ASML引入了支持量產的極紫外光（EUV）光刻設備，是日本首例。這是使用特殊紫外光刻出電路的設備，全球僅ASML一家生產。
Rapidus推進研發2奈米（1奈米為10億分之1米）製程的半導體生產技術，力爭2027年開始量產。（完）
