客觀日本

大阪大學發現超薄磁鐵礦薄膜具有卓越導電性能,可完全消除原子紊亂形成理想的晶體表面

2021年12月27日 電子電氣

大阪大學產業科學研究所的大坂藍特任助教、服部梓副教授及田中秀和教授等人組成的研究團隊,與該校研究生院工學研究科的藤大雪助教及山内和人教授、奈良先端科學技術大學院大學先端科學技術研究科的服部賢副教授,以及中國大連交通大學的郭方副教授等人合作,成功在作爲薄膜成長基礎的單晶基底層(成長基底層)上形成了完全消除原子紊亂的理想終極平坦表面(完整晶體表面)。另外,還在完整表面的基底層上觀察到了強相關氧化物磁鐵礦(Fe3O4)超薄膜(膜厚:50奈米)具有優異的導電特性(相變特性)。

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圖1: 觸媒表面基準蝕刻(CARE)法概念圖。透過從凸起部選擇性地進行蝕刻,在不破壞表面晶體結構的情況下實施了平坦表面(供圖:大阪大學產業科學研究所)

衆所周知,磁鐵礦的電導率會隨着金屬-絕緣體相變(費耳威相變)而大幅改變,在基礎和應用兩方面都備受關注。從應用於奈米電子器件的角度來看,需要製作具有相變特性的超薄磁鐵礦薄膜,但由於成長基底層表面粗糙並且有缺陷,會導致晶體品質下降,因此一直未能實施。

研究團隊將觸媒表面基準蝕刻法(CARE法)應用於磁鐵礦薄膜的成長基底層,實施了原子紊亂非常少的完整晶體表面。表面粗糙度小於0.1奈米rms,相當於甲子園球場的高低差小於1毫米,實施了終極的平坦度。由此,薄膜/成長基底層界面的缺陷數量減至原來的約千分之1,實施了具有優異導電特性(相變特性)的超薄磁鐵礦薄膜。

結果表明,即使是以前因基底層表面的不完整性而導致功能下降的材料,也能利用超薄膜實施材料本來的優異特性,是表現超薄膜功能的有效手段。

大坂特任助教表示:「我們自主開發的化學拋光技術具有高度的通用的性,透過使完整基底層表面適用於所有功能性薄膜材料,可以強化材料創新能力,比如實施具有魅力特性的奈米結構體,希望還能爲碳中和,以及利用5G線路進行大規模數據通訊等的新型器件的開發做貢獻。」

【註解】
■金屬-絕緣體相變(費耳威相變):正如溫度降低後水會變成冰一樣,即使是同一種物質,也會發生金屬⇔絕緣體的相變化。主要由溫度變化引起。

原文:《科學新聞》
翻譯編輯:JST客觀日本編輯部