經歷過七波新冠電腦病毒的肆虐，日本的感染率儘管依然居高不下，但重症和死亡率已經類似季節性感冒。整個社會逐步進入一種與電腦病毒共存的模式，國門大開，進出日本的遊客不必做核酸檢測與隔離。雖然都是採取開放的模式，但與其它已開發國家的最大的區別是，日本人仍然默守佩戴口罩這一不成文的規矩。
日本，本來就有偏愛口罩的文化。新冠疫情之前，爲了防止花粉症以及流感，在日本就有相當大一部分群體喜歡戴口罩。新冠疫情使得這一傾向更加明顯，佩戴口罩，或許仍會是日本的一種現象。
然而。長期佩戴口罩，也引起了一些副作用。以前在冬季佩戴口罩，除了爲防止流感與花粉，還有保溼與防止面部皮膚乾燥的終極因數與願望。可是，因疫情而長期佩戴口罩者中，導致皮膚粗糙、長痘痘等皮膚問題而煩惱的人也增多了。因此，「瞭解自己的皮膚狀態」成爲了一種需求。不僅是女性，男性也出於同樣的理由對自己的皮膚狀態越來越關心。在這樣的背景下，商家捕捉到這種需求，開始開發對皮膚狀態正應答識的服務。
說到皮膚，我們知道，皮膚由表皮、真皮、皮下組織三層構成。其中最外層的表皮又細分爲四層。也就是，角質層、顆粒層、有棘層、基底層。皮膚具有屏障功能。
我們的肌膚每天都在不斷地更新換代即代謝。存在於表皮最下層的表皮基底細胞從基底層開始向上擠製，不斷地分裂，最後失去細胞核的細胞以角質的形式出現在皮膚表面變成污垢而脫落。這一系列的替代程序大約需要四周，被稱爲代謝。正常的皮膚需要28天左右進行代謝。但是，當皮膚受到乾燥、紫外線等外界的刺激時，爲了恢復傷害，表皮細胞的分裂就會變得旺盛，從而加速新陳代謝。這樣一來，就會形成殘留細胞核或細胞面積小的未成熟細胞。在這樣的皮膚部位，表皮的細胞不能成爲完全的角質層細胞，導致肌膚的保溼功能和屏障功能不完善，角質細胞也無法順利剝離。結果，皮膚變得粗糙。
爲了擁有正常的肌膚，有規律地進行代謝是很重要的。如果代謝正常的話，角質細胞的大小是均勻的，每一層都是幹淨重疊的狀態。但是，如果代謝紊亂，細胞就會有細胞核，大小不均勻，部分層重疊變厚。
那麼，如何判斷皮膚的代謝正常與否呢？常見的一種 「角層水分量測定」方法叫作「膠帶脫帶角質評價試驗」。 它是透過求解角質細胞的面積和角質細胞的剝離狀態、有核細胞率，來評價代謝的狀態和角質的狀態。這種方法是將樣品塗抹在測量部位，每天兩次，持續28天。塗抹前和塗抹28天后，用膠帶將角質剝離，然後染色。染色的角質細胞透過影像分析得到面積、剝落狀態和有核細胞率，從而進行代謝狀態的評估。透過這個試驗，可以測試長期使用化妝品後皮膚的循環改善程度。但是，這樣的測試花費時間長，還需要電子顯微鏡等特殊的分析儀器。
主打無添加護膚品的FANCL公司，早在20年前就在無添加抗壓力研究中着眼於角層蛋白質的研究。並且，在角質層中含有的約100種蛋白質中，發現了特別與肌膚美麗有關的蛋白質，發現理想的皮膚美在於「7種肌膚力」的平衡。2015年開發了應用該研究的肌膚分析系統「角質層生物標誌物分析」，並開始提供服務。但是，這項服務只提供部分直營店鋪和郵購，另外，分析結果也需要時間。
在這種背景下，如何縮短測試時間，同時運用透過「角層生物標誌物分析」的研究和服務獲得的新知識和資料，這就是人工智慧（AI）擅長的事情了。FANCL採用了東芝數位解決方案株式會社的人工智慧分析系統「SATLYS」，將其演化成在短時間內能得出分析結果的系統，進而推廣到其旗下的所有店鋪。
FANCL東芝「AI個性化角層解析系統」圖示（圖片取自東芝官網）
擁有皮膚諮詢經驗的FANCL與在影像分析AI方面有專長的東芝的合作，從構想階段就着眼於共同創造皮膚分析解決方案，從而得到推導皮膚諮詢所需指標的人工智慧模式。該服務在一張膠帶上採集角質層，透過專用機器進行AI分析。AI綜合解析的結果，用平衡圖的方式，將顯示角質層的狀態、肌膚問題的可能性、以及7種肌膚力。同時，備註美容專家的建議等。在此基礎上，根據顯示的結果，由擁有美容專業知識的工作人員進行30分鐘左右的個人諮詢。在該公司的會員應用程式内的個人頁面上，可以保存過去2年最多4次的綜合分析結果資料。
該系統的特點是，根據臉頰的角質層細胞的影像，AI便可以推測出評估皮膚狀態的各種資訊(角質層細胞的形狀和生物標誌物量)。運用雲端的SATLYS人工智慧平台，在店裏採集的角質層細胞的影像，上傳雲端的人工智慧進行分析，實施了時間和成本的最適化。同時，透過向FANCL提供在「SATLYS AI平台」上實施的再學習和模式更新功能，也有助於AI模式的穩定運用和精度的提高。
日本的化妝品公司在國際上有很多追捧者。FANCL在華語圈雖然不像其它頂尖品牌有名氣，但是，其推出的無添加理念，無疑更符合年輕一代消費者的健康意識。在目前日元大幅貶值壓力的經濟環境中，化妝品的出口以及護膚、健康產業反而迎來了隊形變換的機遇。這或許是下沉的日本經濟中的一線曙光。
供稿 / 戴維
編輯修改 / JST客觀日本編輯部
